学术论文

X. Sun, P. Xiao and Z.J. Ding
Monte Carlo Simulation of Projection Electron Beam Lithography
China International Conference on Nanoscience and Technology, China (Beijing), 2005.
Solid State Phenom. 121-123 (2007) 1097-1102.

Z.M. Zhang, P. Xiao, T. Chen, X. Sun and Z.J. Ding
Monte Carlo Simulation for Low-Energy Electron Lithography
3rd China-Japan Joint Seminar on Atomic Level Characterization, China (Xiamen), 2006, (oral).
《现代科学仪器》 2006年增刊第14－15页.

肖沛、张增明、孙霞、丁泽军
投影电子束光刻中电子穿透掩膜的Monte Carlo模拟
《物理学报》，2006年55卷5803－5807页.

P. Xiao, Z.M. Zhang, X. Sun, Z.J. Ding
Monte Carlo Simulation of Electron Transmission through Masks in Projection Electron Lithography
Acta Physica Sinica 55 (2006) 5803-5809. X. Sun, S.F. You, P. Xiao and Z.J. Ding
Simulation of the Proximity Effect of Electron Beam Lithography
Acta Physica Sinica 55 (2006) 148-154.

孙霞、尤四方、肖沛、丁泽军
电子束光刻的邻近效应及其模拟
《物理学报》，2006年55卷148－154页.

肖沛、孙霞、闫继红、丁泽军
电子束光刻中邻近效应校正的几种方法
《电子显微学报》24 (2005) 464-468.

孙霞、丁泽军、肖沛、吴自勤
Mott散射和电子极化术
《物理》34 (2005) 381-386.

孙霞、丁泽军、肖沛、吴自勤
电子束光刻中邻近效应的Monte Carlo模拟
全国第十三届电子显微学会议，2004，威海
《电子显微学报》，2004年23卷363页.