科研方向

基于Monte Carlo 方法的光电子显微镜的成像模拟。
主要研究以同步辐射为光源的第三代光电子显微镜的表面分析技术。X射线与固体物质相互作用,激发电离出光电子。光电子在固体内部经过多次的弹性散射和非弹性散射,散射过程中产生俄歇电子、x射线荧光、二次电子、被散射电子等信号。光电子显微镜分为TEY模式和PEY模式,TEY可以包含了所有能量的电子从而亮度增强。PEY更有利于不同材料的探测。
XPEEM应用广泛,涉及化学成分、铁磁性材料的磁性质、磁畴结构等信息的探索研究。当光源被偏振化为圆偏振光,可以用于磁性材料的研究及XMCD,这是研究磁性材料的重要手段。
目前获得的主要结果有Ag/Si体系的纳米结构的TEY、PEY两张模式的成像,研究了XPPEM成像与入射X射线角度、光子能量、表面不同结构的关系。 很好的模拟研究了光子与固体物质的相互作用并激发电离光电子以及二次电子的产生级联过程。