科研方向

1.纳米薄膜光学常数及厚度的精确测定

当薄膜的厚度在1~100nm尺度时，薄膜具有纳米晶体结构，使得其光学常数表现出不同于常规体材料的光学性质。特别是当薄膜厚度很小时，由于表面原子的影响作用显著，其光学常数会发生显著变化。对纳米晶体薄膜光学性质的研究有助于提高光学薄膜的质量，扩大光学薄膜的应用领域。我们的工作主要是基于椭偏法提出一种新的方法可以更加准确便捷地得到薄膜的厚度及光学常数等数据。


2. 高压物理

高压可以有效缩小原子或分子间的距离，进而导致材料的晶体结构、能带结构以及电子轨道结构等多种性质的变化，产生常压下无法观察的新现象。高压下纳米材料的有限尺寸不仅影响其相变压力点，甚至影响到相变路径，因此，研究高压下纳米晶的结构相变对理解纳米材料的结构稳定性具有十分重要的意义。我们的研究是超高压下材料的光学、结构等物理性质，利用金刚石对顶砧（DAC）结合拉曼光谱仪，荧光光谱仪研究材料的发光特性，结构相变。